Visokoefikasna peel-off maska s trostrukim snagama ugljena i glikolne kiseline za dubinsko čišćenje i sužavanje proširenih pora. Nježno uklanja nečistoće, višak sebuma i odumrle stanice, ostavljajući kožu vidljivo glađom i čistijom.

Sastav:

Aktivni ugljen, glikolna kiselina (AHA), hijaluronska kiselina, panthenol, alantoin.

Upotreba:

Nanesite ravnomjerni sloj na čistu i suhu kožu, izbjegavajući područje oko očiju i usana. Ostavite da se maska u potpunosti osuši (15–20 minuta), zatim pažljivo odvojite s donjeg prema gornjem rubu. Nakon skidanja, isperite preostale tragove vodom i nastavite s tonikom i hidratantnom njegom.

Upozorenje:

Samo za vanjsku upotrebu. Izbjegavati kontakt s očima; u slučaju dospijeća u oči, isperite obilnom vodom. Ne koristiti na iritiranoj ili oštećenoj koži. Prilikom upotrebe AHA kiselina obavezna je dnevna SPF zaštita. Čuvati na sobnoj temperaturi.